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专利名称：一种晶圆缺陷扫描方法专利类型：发明专利
发明人：王洲男,顾晓芳,倪棋梁申请号：CN201811458460.3申请日：20181130公开号：CN109560000A公开日：20190402
摘要：本发明提供了一种晶圆缺陷扫描方法，首先，根据采集到的晶圆表面的光学图像获取像素网格，获取所述像素网格的灰阶值并划分出灰阶值区间，然后，将所述灰阶值区间与图形密度数据区间进行组合，得到阶梯式灵敏度区域，最后，对所述阶梯式灵敏度区域进行阶梯式缺陷扫描。与现有的缺陷扫描方法相比，该方法可以对缺陷扫描区域进行快速准确的划分，减少了人为操作失误，提高了晶圆缺陷扫描的准确性；进一步的，该方法减少了生产成本，提高了工作效率，改善机台产能。
申请人：上海华力微电子有限公司
地址：201203 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号
国籍：CN
代理机构：上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：智云
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