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专利名称：一种微波等离子真空镀膜设备及使用方法专利类型：发明专利发明人：朱广智
申请号：CN201811029372.1申请日：20180905公开号：CN109023307A公开日：20181218
摘要：本发明公开了一种微波等离子真空镀膜设备及使用方法，该设备包括等离子体发生系统、真空排气装置、等离子真空腔体和运动装置，等离子体发生系统、真空排气装置设置在等离子真空腔体的外部，运动装置设置在等离子真空腔体的内部。该设备的使用方法包括以下步骤：等离子真空腔体进行抽真空对待镀膜产品进行预处理、镀膜等。本发明采取等离子体化学气相沉积方法提高了镀膜物质的沉降速率和镀膜生产效率，镀膜的均匀性和一致性得到改善，同时也提高涂层的防水、防汗液、防潮、耐腐蚀、耐溶剂等防护效果，可用于各种PCB、PCBA、电子产品、电器零部件、电子半成品、金属、电子元器件、半导体、集成电路板、塑胶制品等镀膜的场合。
申请人：朱广智
地址：518067 广东省深圳市南山区蛇口广物花园3栋5单元402
国籍：CN
代理机构：北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：汤东凤
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